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磁控溅射辅助离子束沉积技术制备 DLC 薄膜的研究
【作者】
黄 凯,郭海波,陈益钢
【摘要】
以乙炔为碳源,采用磁控溅射辅助线性离子源技术制备含TiC的DLC薄膜。薄膜的沉积速度是纯离子束沉积速率的三倍以上。沉积的DLC薄膜的最小表面粗糙度为2.2 nm,最高硬度为11.97GPa。利用红外光谱、X射线衍射、拉曼光谱和原子力显微镜研究了离子束电压和沉积温度对材料组成、微观结构和表面状态的影响。通过纳米压痕试验,分析了DLC薄膜中H、TiC以及sp3键的含量对薄膜力学性能的影响。
【会议名称】
中国内燃机学会2019年联合学术年会
【会议地点】
天津
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